[发明专利]一种选择性蚀刻氮化钛及钨的蚀刻液在审
| 申请号： | 202111546681.8 | 申请日： | 2021-12-16 |
| 公开（公告）号： | CN114369462A | 公开（公告）日： | 2022-04-19 |
| 发明（设计）人： | 刘悦;贺兆波;钟昌东;张庭;冯凯;尹印;万杨阳;王书萍;李鑫;李金航 | 申请（专利权）人： | 湖北兴福电子材料有限公司 |
| 主分类号： | C09K13/08 | 分类号： | C09K13/08 |
| 代理公司： | 宜昌市三峡专利事务所 42103 | 代理人： | 王玉芳 |
| 地址： | 443007 湖北*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种选择性蚀刻氮化钛及钨的蚀刻液，主要成分包括双氧水，无机酸，腐蚀剂，蚀刻抑制剂，表面活性剂和去离子水构成氮化钛、钨蚀刻液。双氧水是蚀刻液中作为氧化剂；无机酸在蚀刻液中作为次氧化剂，增加双氧水的氧化性且为蚀刻液中提供氢离子，保证维持蚀刻速率的稳定；在蚀刻液对氮化钛及钨蚀刻的过程中，能够选择性的蚀刻氮化钛，同时保证速率的稳定性。腐蚀剂可以与被氧化的钛离子形成络合物，促进氮化钛的进一步反应；蚀刻抑制剂可以抑制金属钨的氧化；蚀刻抑制剂以配位键的形式吸附在金属钨表面形成一层致密的膜，阻碍蚀刻液对金属钨的蚀刻；表面活性剂可以调节蚀刻液与不同相之间的表面张力，达到调节蚀刻液在氮化钛和钨两相的选择比。本发明的蚀刻液能选择性的以高蚀刻速率蚀刻氮化钛。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 选择性 蚀刻 氮化 | ||
【主权项】：
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