[发明专利]一种低泡且蚀刻均匀的蚀刻液有效
| 申请号： | 202111544337.5 | 申请日： | 2021-12-16 |
| 公开（公告）号： | CN114350367B | 公开（公告）日： | 2023-07-11 |
| 发明（设计）人： | 张庭;李金航;贺兆波;武昊冉;李鑫;欧阳克银;蒋瑜瑜 | 申请（专利权）人： | 湖北兴福电子材料股份有限公司 |
| 主分类号： | C09K13/08 | 分类号： | C09K13/08 |
| 代理公司： | 宜昌市三峡专利事务所 42103 | 代理人： | 王玉芳 |
| 地址： | 443007 湖北*** | 国省代码： | 湖北;42 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及一种低泡且蚀刻均匀的蚀刻液，主要成分包括氢氟酸、氟化铵、表面活性剂和超纯水。本发明的蚀刻液中通过加入表面活性剂，表面活性剂具有优良的润湿性且低泡，能够降低蚀刻液的接触角大小，提高蚀刻液浸润性，同时降低表面张力，使蚀刻液与光刻胶下的二氧化硅薄膜接触良好，由于产生气泡量少，能够避免由于气泡导致的蚀刻不均匀问题，保持均匀蚀刻。本发明所述的蚀刻液浸润性优、表面张力低、气泡少，能够均匀蚀刻光刻胶下的二氧化硅薄膜，不产生二氧化硅残留，且对光刻胶无影响。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 蚀刻 均匀 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于湖北兴福电子材料股份有限公司，未经湖北兴福电子材料股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202111544337.5/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种五元配方氧化锌电阻片高阻层的制备方法
- 下一篇：一种分体式气缸盖和气缸
