[发明专利]一种低泡且蚀刻均匀的蚀刻液有效
| 申请号： | 202111544337.5 | 申请日： | 2021-12-16 |
| 公开（公告）号： | CN114350367B | 公开（公告）日： | 2023-07-11 |
| 发明（设计）人： | 张庭;李金航;贺兆波;武昊冉;李鑫;欧阳克银;蒋瑜瑜 | 申请（专利权）人： | 湖北兴福电子材料股份有限公司 |
| 主分类号： | C09K13/08 | 分类号： | C09K13/08 |
| 代理公司： | 宜昌市三峡专利事务所 42103 | 代理人： | 王玉芳 |
| 地址： | 443007 湖北*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 蚀刻 均匀 | ||
【权利要求书】：
1.一种低泡且蚀刻均匀的蚀刻液，其特征在于，所述的蚀刻液成分包括占蚀刻液总重量3-9%的氢氟酸、30-40%的氟化铵、0.005-0.1%的表面活性剂、剩余为水；
所述蚀刻液成分中的氟化铵pH值为8.15-8.25；
所述表面活性剂为非离子表面活性剂；非离子表面活性剂包括十二碳炔二醇聚氧乙烯醚、脂肪醇烷氧基化合物LF-431、脂肪醇聚氧烷基醚LF-221、异构醇LF-901、异构十三醇聚氧乙烯醚、聚氧乙烯聚氧丙烯嵌段聚醚L-61中的一种或几种组合。
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