[发明专利]一种高耐磨损型离合器面片结构在审
| 申请号： | 202111525175.0 | 申请日： | 2021-12-14 |
| 公开（公告）号： | CN114321200A | 公开（公告）日： | 2022-04-12 |
| 发明（设计）人： | 刘进勇 | 申请（专利权）人： | 刘进勇 |
| 主分类号： | F16D13/64 | 分类号： | F16D13/64;F16D13/72 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 610100 四川省成都市龙*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种高耐磨损型离合器面片结构，涉及离合器面片技术领域，包括本体，本体的表面设置有安装块，安装块的上表面设置有摩擦块一和两个摩擦块二，两个摩擦块二呈对称设置，摩擦块一的形状呈梯形，摩擦块二的形状呈弧形，本体的表面设置有散热片，散热片的表面开设有散热孔，摩擦块一和摩擦块二的表面均开设有防滑纹路，摩擦块一背离本体圆心的一侧至本体圆心的距离小于本体的半径，摩擦块二背离本体圆心的一侧至本体圆心的距离等于本体的半径。具备了使相邻摩擦块之间形成L型排风口，达到了多方向高效散热的效果，以及平衡了面片因运转发生的受力不平衡，同时使得面片的耐磨性更佳的效果。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 耐磨 离合器 结构 | ||
【主权项】：
暂无信息
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