[发明专利]实现在体压力传感器长期性能稳定的方法在审
| 申请号： | 202111523932.0 | 申请日： | 2021-12-14 |
| 公开（公告）号： | CN114323403A | 公开（公告）日： | 2022-04-12 |
| 发明（设计）人： | 赵凯;颜国正;马进;韩玎;刘大生 | 申请（专利权）人： | 上海交通大学 |
| 主分类号： | G01L7/10 | 分类号： | G01L7/10;A61B5/00 |
| 代理公司： | 上海交达专利事务所 31201 | 代理人： | 王毓理;王锡麟 |
| 地址： | 200240 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 一种实现在体压力传感器长期性能稳定的方法，通过在PDMS膜上通过化学气相沉积的方法沉积了一层parylene材料，由于parylene沉积层的存在，阻隔了压力腔内部界面流体与生物组织液的相互渗透，保证了压力腔内部化学成分和界面流体体积的稳定，将其应用在体压力传感器封装，可以保证压力传感器性能的长期稳定，进而可以实现在体压力传感器的长期稳定性。 | ||
| 搜索关键词： | 实现 压力传感器 长期 性能 稳定 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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