[发明专利]光刻胶组合物及其应用有效
| 申请号： | 202111513743.5 | 申请日： | 2021-12-10 |
| 公开（公告）号： | CN114153123B | 公开（公告）日： | 2023-09-19 |
| 发明（设计）人： | 罗先刚;杨东旭;彭献;苏凯欣;赵泽宇;高平;王长涛 | 申请（专利权）人： | 中国科学院光电技术研究所 |
| 主分类号： | G03F7/004 | 分类号： | G03F7/004 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 王文思 |
| 地址： | 610209 *** | 国省代码： | 四川;51 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本公开提供了一种光刻胶组合物，包括：化学放大基体，化学放大基体包括聚合物树脂、光致酸产生剂和溶剂；溶解抑制剂，为包含重氮萘醌结构的小分子材料。本公开还提供了该光刻胶组合物的应用。本公开的光刻胶组合物通过加入具有重氮萘醌结构的溶解抑制剂，可实现高留膜率的超薄光刻胶膜层，同时增加曝光区与非曝光区域的化学对比度，实现了光刻灵敏度、对比度、分辨率的共同提升。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 组合 及其 应用 | ||
【主权项】：
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