[发明专利]光刻胶组合物及其应用

权利要求书

1.一种光刻胶组合物，其特征在于，包括：

化学放大基体，所述化学放大基体包括聚合物树脂、光致酸产生剂和溶剂；所述聚合物树脂为对羟基苯乙烯类树脂、丙烯酸酯类树脂或由对羟基苯乙烯类单体、丙烯酸酯类单体共聚得到的树脂；

溶解抑制剂，为包含重氮萘醌结构的小分子材料。

2.根据权利要求1所述的光刻胶组合物，其特征在于，所述聚合物树脂含有酸不稳定基团的重复单元。

3.根据权利要求2所述的光刻胶组合物，其特征在于，所述聚合物树脂分子量为2000～100000；

所述聚合物树脂占所述光刻胶组合物的重量百分比为0.5～10％。

4.根据权利要求1所述的光刻胶组合物，其特征在于，所述溶解抑制剂为包含2～10个重氮萘醌结构的基团且该基团以磺酸酯的形式接枝在含有2～10个酚羟基的多酚骨架结构上的分子。

5.根据权利要求4所述的光刻胶组合物，其特征在于，所述溶解抑制剂的结构如下式III～式VI所示：

其中：R₄＝H，或者但R₄不全为H；R₅＝碳原子数为1～5的烷基；n＝1～5；o＝1～10；p＝1～10；q＝0～4。

6.根据权利要求5所述的光刻胶组合物，其特征在于，所述溶解抑制剂占所述光刻胶组合物的重量百分比为0.1％～3％。

7.根据权利要求1所述的光刻胶组合物，其特征在于，所述光致酸产生剂为非离子型磺酸酯类结构或离子型鎓盐类结构的化合物；

所述光致酸产生剂占所述光刻胶组合物的重量百分比为0.1％～5％。

8.根据权利要求1所述的光刻胶组合物，其特征在于，所述溶剂为乙酸正丁酯、乙酸乙酯、γ-丁内酯、丙二醇甲醚醋酸酯、丙二醇甲醚中的一种或多种的混合物。

9.根据权利要求8所述的光刻胶组合物，其特征在于，所述溶剂占所述光刻胶组合物的重量百分比为80～99％。

10.根据权利要求1所述的光刻胶组合物，其特征在于，所述光刻胶组合物还包括流平剂、表面活性剂、稳定剂中的一种或多种的混合物。

11.根据权利要求1～10中任意一项所述的光刻胶组合物在高分辨干涉光刻、SP超衍射光刻、电子束直写、I线接近式光刻中的应用。