[发明专利]一种磁射流抛光装置有效
| 申请号： | 202111507836.7 | 申请日： | 2021-12-10 |
| 公开（公告）号： | CN114248204B | 公开（公告）日： | 2023-03-24 |
| 发明（设计）人： | 张志宇;刘琛;魏鸿达;邓伟杰 | 申请（专利权）人： | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 |
| 主分类号： | B24C1/08 | 分类号： | B24C1/08;B24C9/00;B24C5/04;B24C7/00 |
| 代理公司： | 深圳市科进知识产权代理事务所(普通合伙) 44316 | 代理人： | 魏毅宏 |
| 地址： | 130033 吉林省长春*** | 国省代码： | 吉林;22 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供了一种磁射流抛光装置，属于光学制造技术领域，包括用于放置固定被加工件的夹具，用于射出磁射流束的磁射流束产生装置，夹具与磁射流束产生装置相对设置使得产生的磁射流束作用于被加工件表面实现磁射流抛光；还包括梯度磁场发生装置，设置于夹具与磁射流束产生装置之间，使磁射流束产生装置射出的磁射流束在到达被加工件前受到其产生的梯度磁场作用力影响。本发明通过在被加工件周围增加一个梯度磁场发生装置，磁射流束在接触工件表面之前受到梯度磁场的作用力，提高了速度和对工件的压强，进而提高了加工效率；同时，由于电磁力的影响，磁射流接触工件后，扩束阻力增大，空间受到限制，加工区域变小。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 射流 抛光 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院长春光学精密机械与物理研究所，未经中国科学院长春光学精密机械与物理研究所许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202111507836.7/，转载请声明来源钻瓜专利网。
