[发明专利]一种磁射流抛光装置有效
| 申请号： | 202111507836.7 | 申请日： | 2021-12-10 |
| 公开（公告）号： | CN114248204B | 公开（公告）日： | 2023-03-24 |
| 发明（设计）人： | 张志宇;刘琛;魏鸿达;邓伟杰 | 申请（专利权）人： | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 |
| 主分类号： | B24C1/08 | 分类号： | B24C1/08;B24C9/00;B24C5/04;B24C7/00 |
| 代理公司： | 深圳市科进知识产权代理事务所(普通合伙) 44316 | 代理人： | 魏毅宏 |
| 地址： | 130033 吉林省长春*** | 国省代码： | 吉林;22 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 射流 抛光 装置 | ||
1.一种磁射流抛光装置，其特征在于，包括用于放置固定被加工件的夹具，用于射出磁射流束的磁射流束产生装置，所述夹具与所述磁射流束产生装置相对设置使得产生的磁射流束作用于被加工件表面实现磁射流抛光；
还包括梯度磁场发生装置，设置于所述夹具与所述磁射流束产生装置之间，使所述磁射流束产生装置射出的磁射流束在到达被加工件前受到其产生的梯度磁场作用力影响，从而调整磁射流抛光的去除区域和去除效率；
所述磁射流束产生装置包括喷射系统密封外壳，设置于所述喷射系统密封外壳内部的匀强磁场发生装置和喷嘴，还包括设置于所述喷射系统密封外壳外部的进液口，磁射流液经所述进液口输送到所述喷嘴，经所述匀强磁场发生装置产生的磁场作用，发生磁流变效应，准直稳定射出。
2.根据权利要求1所述的磁射流抛光装置，其特征在于，所述喷嘴位于所述匀强磁场发生装置的磁场作用范围区域。
3.根据权利要求1所述的磁射流抛光装置，其特征在于，还包括梯度磁场发生装置密封外壳，所述梯度磁场发生装置位于所述梯度磁场发生装置密封外壳的内部。
4.根据权利要求3所述的磁射流抛光装置，其特征在于，所述梯度磁场发生装置和所述梯度磁场发生装置密封外壳均固定安装于所述夹具上。
5.根据权利要求4所述的磁射流抛光装置，其特征在于，所述夹具可与机械手联结并随机械手运动，进而带动被加工件和所述梯度磁场发生装置及所述梯度磁场发生装置密封外壳运动。
6.根据权利要求1所述的磁射流抛光装置，其特征在于，所述梯度磁场发生装置产生的梯度磁场的大小可调节。
7.根据权利要求1所述的磁射流抛光装置，其特征在于，所述夹具为组合夹具。
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