[发明专利]用于形成垂直腔面发射激光器的多相生长序列在审

专利信息
申请号: 202111504358.4 申请日: 2021-12-10
公开(公告)号: CN114696214A 公开(公告)日: 2022-07-01
发明(设计)人: 赵国为;杨军;A.V.巴韦;M.G.彼得斯 申请(专利权)人: 朗美通经营有限责任公司
主分类号: H01S5/183 分类号: H01S5/183;H01S5/34;C23C16/30;C23C16/40
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 贺紫秋
地址: 美国加利*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 一种使用多相生长序列形成垂直腔面发射激光器(VCSEL)装置的方法,包括:在基板上形成第一反射镜;在第一反射镜上形成有源区(例如,稀氮化物有源区);在有源区上形成氧化孔(OA)层;在所述OA层的表面上形成间隔物;以及在间隔物上形成第二反射镜。在多相生长序列的分子束外延阶段,使用分子束外延(MBE)工艺形成有源区,在多相生长序列的金属有机化学气相沉积(MOCVD)阶段,使用金属有机化学气相沉积工艺形成第二反射镜。
搜索关键词: 用于 形成 垂直 发射 激光器 多相 生长 序列
【主权项】:
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