[发明专利]位阻调控的单分子自闪烁荧光染料的合成与应用在审
| 申请号： | 202111497799.6 | 申请日： | 2021-12-09 |
| 公开（公告）号： | CN116253739A | 公开（公告）日： | 2023-06-13 |
| 发明（设计）人： | 徐兆超;乔庆龙;吴绍维 | 申请（专利权）人： | 中国科学院大连化学物理研究所 |
| 主分类号： | C07D491/107 | 分类号： | C07D491/107;C07D491/22;C09B57/00;C09K11/06;G01N21/64 |
| 代理公司： | 沈阳科苑专利商标代理有限公司 21002 | 代理人： | 马驰 |
| 地址： | 116023 辽宁省*** | 国省代码： | 辽宁;21 |
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| 摘要： |
本发明提供了一类用于单分子荧光成像的自闪烁荧光染料及其合成，该染料中引入的大位阻酰胺能够调节罗丹明染料的分子内螺环化反应平衡，实现该染料在正常生理条件下自发的在荧光与非荧光状态之间的转换，从而实现单分子荧光成像，染料结构如(1)所示；与现有自闪烁荧光染料相比，该染料不依赖对氧杂蒽结构上电子效应的调节实现分子内螺环化反应的调节，而是在螺环处引入大位阻酰胺，利用位阻效应调节螺环化反应平衡，因此该染料可以在几乎不改变氧杂蒽母体吸收波长、发射波长和荧光量子产率的前提下实现自闪烁，且易于合成与功能化，在单分子成像领域具有良好应用前景。 |
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| 搜索关键词： | 调控 分子 闪烁 荧光 染料 合成 应用 | ||
【主权项】：
暂无信息
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