[发明专利]用于含银薄膜的蚀刻组合物在审
| 申请号： | 202111474948.7 | 申请日： | 2021-12-03 |
| 公开（公告）号： | CN114686237A | 公开（公告）日： | 2022-07-01 |
| 发明（设计）人： | 朴种熙;金炯式;权五柄;南基龙;闵庚灿;李昔准;金英民;金镇亨;李东勋;林奎勋;张东玟 | 申请（专利权）人： | 三星显示有限公司;东友精细化工有限公司 |
| 主分类号： | C09K13/06 | 分类号： | C09K13/06;C23F1/30;C23F1/44;C23F1/02;H01L27/32 |
| 代理公司： | 北京钲霖知识产权代理有限公司 11722 | 代理人： | 李英艳;冯志云 |
| 地址： | 韩国京畿*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种用于含银薄膜的蚀刻组合物，所述蚀刻组合物包括无机酸化合物、磺酸化合物、有机酸化合物、硝酸盐、金属氧化剂、氨基酸化合物以及水。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 薄膜 蚀刻 组合 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于三星显示有限公司;东友精细化工有限公司，未经三星显示有限公司;东友精细化工有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202111474948.7/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：电波穿透罩和其制造方法
- 下一篇：一种基于对抗神经网络的语义分割方法
