[发明专利]一种基于光刻胶材料的超构表面在审
| 申请号： | 202111465417.1 | 申请日： | 2021-12-03 |
| 公开（公告）号： | CN114047566A | 公开（公告）日： | 2022-02-15 |
| 发明（设计）人： | 文静;彭嘉;张大伟;吴双宝 | 申请（专利权）人： | 上海理工大学 |
| 主分类号： | G02B1/00 | 分类号： | G02B1/00 |
| 代理公司： | 上海旭诚知识产权代理有限公司 31220 | 代理人： | 郑立 |
| 地址： | 200093 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： |
本发明公开了一种基于光刻胶材料的超构表面，其特征在于，所述超构表面采用光刻胶材料构建，所述超构表面的基本结构为微纳阵列结构，所述微纳阵列结构由基本单元组成，所述超构表面由所述基本结构进行周期性延伸形成。与传统的由TiO |
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| 搜索关键词： | 一种 基于 光刻 材料 表面 | ||
【主权项】：
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