[发明专利]PCB等离子体处理设备及其控制方法有效
| 申请号： | 202111451437.3 | 申请日： | 2021-12-01 |
| 公开（公告）号： | CN114430621B | 公开（公告）日： | 2023-06-27 |
| 发明（设计）人： | 郭明亮;易先德 | 申请（专利权）人： | 珠海安普特科技有限公司 |
| 主分类号： | H05K3/26 | 分类号： | H05K3/26;H05K3/00 |
| 代理公司： | 广州嘉权专利商标事务所有限公司 44205 | 代理人： | 张龙哺 |
| 地址： | 519000 广东省珠海市*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种PCB等离子体处理设备及其控制方法，属于PCB等离子处理领域，本PCB等离子体处理设备包括：机架；处理腔室，处理腔室设置在机架上，处理腔室上开设有第一开口和第二开口，处理腔室用于对PCB制品进行等离子体处理；进料腔室，进料腔室设置在机架上，进料腔室通过第一开口与处理腔室连通，进料腔室上开设有进料开口；卸料腔室，卸料腔室设置在机架上，卸料腔室通过第二开口与处理腔室连通，卸料腔室上开设有卸料开口；若干密封门，若干密封门分别可活动地设置在第一开口、第二开口、进料开口和卸料开口上，密封门用于开启和关闭对应开口；以及真空装置，处理腔室、进料腔室和卸料腔室均分别与真空装置连接。 | ||
| 搜索关键词： | pcb 等离子体 处理 设备 及其 控制 方法 | ||
【主权项】：
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