[发明专利]一种基于直方图匹配的干涉成像光谱仪相对辐射校正方法在审
| 申请号： | 202111446702.9 | 申请日： | 2021-11-30 |
| 公开（公告）号： | CN114387172A | 公开（公告）日： | 2022-04-22 |
| 发明（设计）人： | 陈铁桥;冯向朋;李海巍;张耿;王爽;刘学斌;李思远;苏秀琴;刘佳;王一豪;刘杰 | 申请（专利权）人： | 中国科学院西安光学精密机械研究所 |
| 主分类号： | G06T5/00 | 分类号： | G06T5/00;G06T5/40;G06V10/74;G06K9/62 |
| 代理公司： | 西安智邦专利商标代理有限公司 61211 | 代理人： | 赵逸宸 |
| 地址： | 710119 陕西省西*** | 国省代码： | 陕西;61 |
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| 摘要： | 本发明属于干涉成像光谱仪相对辐射校正方法，为解决在轨运行中，通常利用大量数据对整幅图像进行直方图匹配，进而对探测器不均一性进行校正，但这种方法仅适用于滤光片和分光的成像模式，对干涉成像光谱仪获取的叠加干涉条纹数据并不适用的技术问题，提供一种基于直方图匹配的干涉成像光谱仪相对辐射校正方法，利用大量在轨运行数据对不同光程差位置像元灰度值分别进行直方图统计，并利直方图匹配算法建立各光程差下相对辐射校正灰度值映射查找表，实现干涉成像光谱仪的在轨相对辐射校正，能够完成带有干涉条纹的干涉型成像光谱仪数据的相对辐射校正，避免干涉条纹对在轨相对辐射校正的影响。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 基于 直方图 匹配 干涉 成像 光谱仪 相对 辐射 校正 方法 | ||
【主权项】：
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