[发明专利]一种基于直方图匹配的干涉成像光谱仪相对辐射校正方法在审
| 申请号: | 202111446702.9 | 申请日: | 2021-11-30 |
| 公开(公告)号: | CN114387172A | 公开(公告)日: | 2022-04-22 |
| 发明(设计)人: | 陈铁桥;冯向朋;李海巍;张耿;王爽;刘学斌;李思远;苏秀琴;刘佳;王一豪;刘杰 | 申请(专利权)人: | 中国科学院西安光学精密机械研究所 |
| 主分类号: | G06T5/00 | 分类号: | G06T5/00;G06T5/40;G06V10/74;G06K9/62 |
| 代理公司: | 西安智邦专利商标代理有限公司 61211 | 代理人: | 赵逸宸 |
| 地址: | 710119 陕西省西*** | 国省代码: | 陕西;61 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 基于 直方图 匹配 干涉 成像 光谱仪 相对 辐射 校正 方法 | ||
1.一种基于直方图匹配的干涉成像光谱仪相对辐射校正方法,其特征在于,包括以下步骤:
S1,对通过干涉成像光谱仪获取的原始数据进行去暗电流处理,得到经过暗电流校正的数据;
S2,利用所述经过暗电流校正的数据,统计探测器各像元灰度值分布的直方图,获取各像元灰度值分布直方图的概率密度函数,并根据各像元灰度值分布直方图的概率密度函数得到各像元累计直方图;
S3,根据所述各像元累计直方图,获取各像元不同光程差下平均累计直方图:
S4,分别对经步骤S3得到的所述各像元不同光程差下平均累计直方图,和经步骤S2得到的相应光程差下所述各像元累计直方图进行匹配计算,得到各像元不同光程差下平均累计直方图和相应光程差下各像元累计直方图之间的灰度值映射关系,得到相对辐射校正灰度值映射查找表;
S5,通过所述相对辐射校正灰度值映射查找表,对获取的原始图像灰度值进行更新,得到经过相对辐射校正的图像。
2.如权利要求1所述一种基于直方图匹配的干涉成像光谱仪相对辐射校正方法,其特征在于,步骤S2中,所述获取各像元灰度值分布直方图的概率密度函数,具体是通过下式获取像元坐标位置为(i,j)灰度值为k的分布直方图概率密度函数pk(i,j):
pk(i,j)=nk(i,j)/N(i,j)
其中,i=1,2......M,M为像元的坐标位置总行数;j=1,2......N,N为像元的坐标位置总列数;k=0,1,2......Z,Z为每个像素原始直方图中像素的总灰度值数减1;nk(i,j)表示像元坐标位置为(i,j)灰度值为k的像素数目;N(i,j)表示像元坐标位置为(i,j)所有像素个数。
3.如权利要求2所述一种基于直方图匹配的干涉成像光谱仪相对辐射校正方法,其特征在于,步骤S2中,所述根据各像元灰度值分布直方图的概率密度函数得到各像元累计直方图,具体是通过下式获取像元坐标位置为(i,j)灰度值为k的累计直方图概率密度函数Sk(i,j):
根据Sk(i,j),得到各像元累计直方图。
4.如权利要求3所述一种基于直方图匹配的干涉成像光谱仪相对辐射校正方法,其特征在于,步骤S3具体为:通过下式得到像元坐标位置行数为i灰度值为k的累计直方图概率密度函数均值Sk(i):
根据Sk(i),得到各像元不同光程差下平均累计直方图。
5.如权利要求4所述一种基于直方图匹配的干涉成像光谱仪相对辐射校正方法,其特征在于,步骤S4具体为,
S4.1,在所述各像元不同光程差下平均累计直方图中选择一个灰度值g,使得满足以下条件:
Sg(i)≤Sk(i,j)<Sg+1(i);
则在对应像元的灰度值与g之间建立映射;
S4.2,对探测器各像元重复执行步骤S4.1,得到包括所有像元的相对辐射校正灰度值映射查找表。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院西安光学精密机械研究所,未经中国科学院西安光学精密机械研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202111446702.9/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。





