[发明专利]一种压印设备中薄膜平行度控制方法及装置在审

专利信息
申请号: 202111411872.3 申请日: 2021-11-25
公开(公告)号: CN114153139A 公开(公告)日: 2022-03-08
发明(设计)人: 程晓亮;刘炳坤;刘海玲;高臣 申请(专利权)人: 天津市英贝特航天科技有限公司
主分类号: G05B11/42 分类号: G05B11/42;G03F7/00;B29C59/04;B29C37/00;B82Y40/00
代理公司: 天津市尚文知识产权代理有限公司 12222 代理人: 徐杨阳
地址: 300000 天津市滨海新区自*** 国省代码: 天津;12
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摘要: 本申请提供一种压印设备中薄膜平行度控制方法和装置,该方法包括:获取薄膜运行过程中的偏差信号作为输入变量,判断该偏差信号中的系统偏差是否小于预设偏差阈值;若是,则对预设时间段内的输入变量进行积分,根据积分结果获取偏差控制量,通过所述偏差控制量消除偏差;若否,则定义输入输出模糊集,根据该输入输出模糊集求解输入输出变量的模糊划分表;根据该模糊划分表和预先设置的模糊计算规则确定模糊关系矩阵;将输入变量输入到模糊关系矩阵并求解模糊控制量,通过所述模糊控制量和偏差控制量消除偏差。本申请通过模糊算法计算薄膜运行过程中不断产生的误差,有效消除了通过数学公式进行控制量计算带来的累计误差,提高平行度控制稳定性。
搜索关键词: 一种 压印 设备 薄膜 平行 控制 方法 装置
【主权项】:
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