[发明专利]一种压印设备中薄膜平行度控制方法及装置

说明书

本申请提供一种压印设备中薄膜平行度控制方法和装置，该方法包括：获取薄膜运行过程中的偏差信号作为输入变量，判断该偏差信号中的系统偏差是否小于预设偏差阈值；若是，则对预设时间段内的输入变量进行积分，根据积分结果获取偏差控制量，通过所述偏差控制量消除偏差；若否，则定义输入输出模糊集，根据该输入输出模糊集求解输入输出变量的模糊划分表；根据该模糊划分表和预先设置的模糊计算规则确定模糊关系矩阵；将输入变量输入到模糊关系矩阵并求解模糊控制量，通过所述模糊控制量和偏差控制量消除偏差。本申请通过模糊算法计算薄膜运行过程中不断产生的误差，有效消除了通过数学公式进行控制量计算带来的累计误差，提高平行度控制稳定性。

技术领域

本申请请求保护一种压印设备控制技术，尤其涉及一种压印设备中薄膜平行度控制方法。本申请还涉及压印设备中薄膜平行度控制装置。

背景技术

三维纳米薄膜制造属微纳制造技术领域，而微纳制造是现代制造工业的基础技术之一，也是当前备受瞩目的重要前沿技术领域。

在三维纳米薄膜制造过程中，薄膜基材开卷、运行、收卷过程的稳定性，决定了三维纳米薄膜的连续压印成型质量；因此，各个卷筒及辊之间薄膜位置的控制与自动纠偏是决定压印成型质量的关键所在。在薄膜运动过程中，为了保证不发生位置和角度的偏离，需对对薄膜运动过程的平行度进行调节。

现有技术中，二维模糊控制器中以系统偏差E和偏差变化Ec为输入语言变量；获取每个控制周期T内薄膜运动过程的平行度u，并将u作为输出语言变量。因此该类控制器类似于常规PD控制器，而PD控制器不能消除系统的累计误差，导致平行度控制稳定性不高。

发明内容

为了解决当前技术方案中压印设备中薄膜平行度控制稳定性不高的问题，本申请提出一种压印设备中薄膜平行度控制方法以及一种压印设备中薄膜平行度控制装置。

本申请提供一种压印设备中薄膜平行度控制方法，包括：

获取薄膜运行过程中的偏差信号作为输入变量，判断所述偏差信号中的系统偏差是否小于预设偏差阈值；

若是，则对预设时间段内的输入变量进行积分，根据积分结果获取偏差控制量，通过所述偏差控制量消除偏差；

若否，则定义输入输出模糊集，根据所述输入输出模糊集求解输入输出变量的模糊划分表；

根据所述模糊划分表和预先设置的模糊计算规则确定模糊关系矩阵；将所述输入变量输入到所述模糊关系矩阵并求解模糊控制量，通过所述模糊控制量和偏差控制量消除偏差。

可选的，所述输入输出模糊集中，输入变量语言值的子集包括：系统偏差子集和偏差变化子集；

所述系统偏差子集和偏差变化子集为：负大、负小、零、正小或正大，所述输入变量论域为：{-3，-2，-1，0，1，2，3}。

可选的，所述模块计算规则包括：系统偏差语言值、偏差变化语言值以及所述系统偏差语言值和偏差变化语言值对应的模糊控制量。

可选的，所述模糊关系矩阵如下：

其中，所述R^*表示模糊关系矩阵，所述将所述输入变量输入到所述模糊关系矩阵并求解模糊控制量的公式如下：

U＝E_e*O*R^*

其中，所述O是负大、负小、零、正小或正大中的零，所述E_e是误差矩阵。

可选的，所述消除偏差包括，采用增量式算法，公式如下：

Δu(k)＝u(k)-u(k-1)＝k_p(e(k)-e(k-1)+k_ie(k)T