[发明专利]一种低压腐蚀箔及其制备方法和应用有效

专利信息
申请号: 202111408713.8 申请日: 2021-11-24
公开(公告)号: CN114059145B 公开(公告)日: 2023-05-26
发明(设计)人: 胡三元;罗向军;陈锦雄;汪启桥;江国东;闫小宇;吕根品;李洪伟 申请(专利权)人: 乳源瑶族自治县东阳光化成箔有限公司;韶关东阳光科技研发有限公司
主分类号: C25F3/04 分类号: C25F3/04;C25F7/00;H01G9/045;H01G9/055
代理公司: 广州粤高专利商标代理有限公司 44102 代理人: 苏晶晶
地址: 512700 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明公开了一种低压腐蚀箔及其制备方法和应用。本发明的制备方法包括预处理、近场直写、布孔腐蚀、中处理、深度生长腐蚀、后处理和热处理步骤,所述近场直写步骤的具体操作为:将熔融态的非水溶性聚合物在铝箔两面进行对称直写处理,得到若干条平行或交叉线条组成的平面图案;所述图案线条之间距离为20~200μm,图案线条宽度为0.5~1000μm。本发明所制备的低压腐蚀箔具有连续贯穿结构的夹心铝层,使其具有较高比容的同时显著提升了折弯性能,折弯强度达到85~99回,同时改善了正负极引线与低压腐蚀箔的有效接触面积,进而减小接触电阻,减少发热和击穿等现象的发生。
搜索关键词: 一种 低压 腐蚀 及其 制备 方法 应用
【主权项】:
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