[发明专利]一种CZTS薄膜太阳能电池用无Cd隧穿缓冲层的制备方法在审
申请号: | 202111399054.6 | 申请日: | 2021-11-24 |
公开(公告)号: | CN114171636A | 公开(公告)日: | 2022-03-11 |
发明(设计)人: | 童正夫;韩长存;刘志锋;方黎;柳阳;王文君;谭保华 | 申请(专利权)人: | 湖北工业大学 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18;H01L31/0352;B82Y30/00;B82Y40/00 |
代理公司: | 武汉科皓知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 42222 | 代理人: | 兰岚 |
地址: | 430068 湖*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | 本发明提供一种CZTS薄膜太阳能电池用无Cd隧穿缓冲层的制备方法,包括以下步骤:首先,将CZTS薄膜置于真空条件下,采用Zn靶在CZTS薄膜上溅射形成种子层,得到样品A;其次,将样品A置于含有Zn源、S源以及络合剂的溶液I中进行化学浴沉积,得到样品B;最后,将样品B置于惰性气氛中进行退火处理,得到CZTS薄膜太阳能电池用无Cd隧穿缓冲层。本发明提供的制备方法能够实现对于CZTS薄膜的完全覆盖,避免由于覆盖不全而造成的短路现象。同时,该制备方法制备得到的无Cd缓冲层为超薄结构,能够更好的发挥隧穿效应,其与CZTS薄膜之间形成“倒刺型”的能带结构,减少载流子复合损失,进而提升CZTS薄膜太阳能电池的器件性能。 | ||
搜索关键词: | 一种 czts 薄膜 太阳能电池 cd 缓冲 制备 方法 | ||
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H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
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