[发明专利]具有阻隔膜的防污染密封盖、多腔室样本制备装置在审
| 申请号： | 202111372657.7 | 申请日： | 2021-11-18 |
| 公开（公告）号： | CN113913282A | 公开（公告）日： | 2022-01-11 |
| 发明（设计）人： | 周鑫颖;刘斌;郭旻;郭求真;戴涛;王梓 | 申请（专利权）人： | 鲲鹏基因(北京)科技有限责任公司;鲲鹏（徐州）科学仪器有限公司 |
| 主分类号： | C12M1/34 | 分类号： | C12M1/34;C12M1/12;C12M1/04;C12M1/00 |
| 代理公司： | 北京玄法律师事务所 16002 | 代理人： | 潘满根 |
| 地址： | 102200 北京市昌平区回*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供一种具有阻隔膜的防污染密封盖、多腔室样本制备装置，其中的防污染密封盖，包括相向扣合的盖体及底座，所述盖体与所述底座之间形成密封腔体，其中，所述盖体上构造有通气孔，所述底座上构造有与所述通气孔连通的过气孔，所述底座远离所述盖体的一侧能够与多腔室样本制备盒体密封连接，所述通气孔处具有阻隔膜，所述阻隔膜能够拦截所述通气孔进入的气体中的核酸气溶胶并允许气流通过。本发明，能够对进出气流中可能存在的核酸气溶胶实现拦截，从而防止气溶胶进入系统内部产生气溶胶污染问题。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 阻隔 污染 密封 多腔室 样本 制备 装置 | ||
【主权项】：
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