[发明专利]一种光刻图案、金属图形连接体及其制备工艺

摘要

本发明公开了一种光刻图案、金属图形连接体及其制备工艺，先在基础模板上形成基础图案，所述基础图案由下到上依次为金属层和非金属层，于非金属层的上端面形成多个覆膜图形，所述覆膜图形的两侧均形成氮化硅图形，覆膜图形及其两侧的氮化硅图形为一个单元体，还包括以下步骤：S1、沉积覆膜层，使覆膜覆盖单元体且留出相邻两个单元体之间的间隙，刻蚀该间隙对应的非金属层且不刻蚀该间隙对应的金属层；S2、挥发去除覆膜；S3、在经过刻蚀非金属层上形成的空缺中沉积铷；S4、先刻蚀未被氮化硅图形覆盖的非金属层、金属层，再刻蚀氮化硅图形，再刻蚀剩余非金属层且不刻蚀金属层。本发明解决了现有光刻工艺制备金属图形连接体导致的图形损伤的问题。