[发明专利]极紫外光源中的目标扩展速率控制在审
| 申请号： | 202111336436.4 | 申请日： | 2016-08-10 |
| 公开（公告）号： | CN113966061A | 公开（公告）日： | 2022-01-21 |
| 发明（设计）人： | R·J·拉法克;D·J·里格斯 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | H05G2/00 | 分类号： | H05G2/00 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 李兴斌 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本公开涉及极紫外光源中的目标扩展速率控制。一种方法，包括：提供目标材料，目标材料包括在被转换为等离子体时发射极紫外(EUV)光的成分；朝向目标材料引导第一辐射束以向目标材料传递能量以修改目标材料的几何分布以形成经修改的目标；朝向经修改的目标引导第二辐射束，第二辐射束将经修改的目标的至少一部分转换为发射EUV光的等离子体；测量相对于第一辐射束的与目标材料和经修改的目标中的一个或多个相关联的一个或多个特性；以及基于测量的一个或多个特性来将从第一辐射束向目标材料传递的辐射曝光量控制在预定能量范围内。 | ||
| 搜索关键词： | 紫外 光源 中的 目标 扩展 速率 控制 | ||
【主权项】：
暂无信息
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