[发明专利]二维材料异质结浮栅存储器及其制备方法在审

专利信息
申请号: 202111327080.8 申请日: 2021-11-10
公开(公告)号: CN114171529A 公开(公告)日: 2022-03-11
发明(设计)人: 左成杰;苏子佳 申请(专利权)人: 中国科学技术大学
主分类号: H01L27/11521 分类号: H01L27/11521;H01L29/423;H01L21/8239
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 鄢功军
地址: 230026 安*** 国省代码: 安徽;34
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摘要: 发明提供一种二维材料异质结浮栅存储器,包括:栅层;绝缘层,覆盖在栅层上;多个浮栅层,形成在绝缘层上,多个浮栅层中的相邻两个之间有间隔;阻挡层,形成在多个浮栅层上;沟道层,形成在阻挡层上;电极层,包括多个源极和多个漏极,与每个间隔对应的沟道层上设置有源极或漏极,相邻两个漏极之间设置有一个源极;每个浮栅层包括允许存储电子和释放电子的允许状态,及禁止存储电子和释放电子的禁止状态;向栅层施加储存偏压,沟道层的电子隧穿进入处于允许状态的浮栅层,处于允许状态的浮栅层存储电子,处于禁止状态的浮栅层不存储电子;向栅层施加释放偏压,处于允许状态的浮栅层存储的电子隧穿回到沟道层,处于允许状态的浮栅层释放电子。
搜索关键词: 二维 材料 异质结浮栅 存储器 及其 制备 方法
【主权项】:
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