[发明专利]一种用于半导体材料的金属离子清洗剂有效
| 申请号： | 202111325832.7 | 申请日： | 2021-11-10 |
| 公开（公告）号： | CN113956925B | 公开（公告）日： | 2023-06-23 |
| 发明（设计）人： | 王燕清;杨佐东 | 申请（专利权）人： | 重庆臻宝科技股份有限公司 |
| 主分类号： | C11D1/83 | 分类号： | C11D1/83;C11D3/04;C11D3/06;C11D3/08;C11D3/20;C11D3/60 |
| 代理公司： | 重庆拓寻知识产权代理事务所(普通合伙) 50313 | 代理人： | 郭泽培 |
| 地址： | 401326 重庆市九*** | 国省代码： | 重庆;50 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种用于半导体材料的金属离子清洗剂，具体包括酸性A洗液、中性洗液和酸性B洗液，其中：酸性A洗液由氟化铵、氟硅酸、H‑95、硫酸组成，溶剂为去离子水；中性洗液由丙酮、丙三醇、二甘醇、丙酮缩甘油、二乙二醇单叔丁基醚组成，溶剂为去离子水；酸性B洗液由盐酸、双氧水、LFG441组成，溶剂为去离子水。本发明的金属离子清洗剂可用于硅材料、石英材料或陶瓷材料，酸浓度低，减小了环境污染和对人体的腐蚀性。洗液稳定性好，不会易分解挥发，提高了洗液使用寿命，对半导体材料腐蚀性小，不会增加产品清洗后的Ra，清洗后金属离子残留浓度小，减少产品在使用过程的损坏，提高产品寿命。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 半导体材料 金属 离子 洗剂 | ||
【主权项】：
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