[发明专利]锆合金包壳Cr涂层磁控溅射制备方法在审
| 申请号： | 202111299188.0 | 申请日： | 2021-11-04 |
| 公开（公告）号： | CN114134456A | 公开（公告）日： | 2022-03-04 |
| 发明（设计）人： | 柏广海;薛飞;张晏玮;梅金娜;李金山;耿建桥;刘二伟 | 申请（专利权）人： | 苏州热工研究院有限公司;中国广核集团有限公司;中国广核电力股份有限公司;西北工业大学 |
| 主分类号： | C23C14/02 | 分类号： | C23C14/02;C23C14/16;C23C14/35;C23C14/58;G21C3/07 |
| 代理公司： | 苏州创元专利商标事务所有限公司 32103 | 代理人： | 俞春雷 |
| 地址： | 215004 *** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种锆合金包壳Cr涂层磁控溅射制备方法，包括如下步骤：将锆合金包壳管材进行抛光后放入磁控溅射设备中，对磁控溅射设备的腔室进行抽真空，分别对锆合金包壳管材和Cr靶表面进行清洗，之后沉积Cr涂层，得到锆合金包壳Cr涂层；沉积Cr涂层时，磁场为由一个NSN型和一个SNS型磁控管构成的双靶闭合磁场，所述Cr靶外设有加强线圈，两组所述加强线圈上通入的电流大小不相同。本发明的锆合金包壳Cr涂层磁控溅射制备方法，在对靶非平衡闭合磁场下采用双极脉冲直流磁控溅射沉积Cr涂层时，能够得到更加致密的Cr涂层，Cr涂层与基体结合力高，孔隙率低，具备良好的磨蚀性能、高温抗水蒸气氧化性能和耐腐蚀性能等。 | ||
| 搜索关键词： | 合金 cr 涂层 磁控溅射 制备 方法 | ||
【主权项】：
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