[发明专利]一种接近接触式曝光装置在审
| 申请号： | 202111267783.6 | 申请日： | 2021-10-29 |
| 公开（公告）号： | CN113960894A | 公开（公告）日： | 2022-01-21 |
| 发明（设计）人： | 不公告发明人 | 申请（专利权）人： | 智慧星空（上海）工程技术有限公司;深圳智达星空科技（集团）有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京清大紫荆知识产权代理有限公司 11718 | 代理人： | 黎飞鸿;冯振华 |
| 地址： | 201413 上海市浦东新区中国(上海*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明属于光刻设备技术领域，具体涉及一种接近接触式曝光装置。用于将掩模图形接近式曝光或接触式曝光至工件上，包括：照明匀光系统，用于产生接近式曝光或接触式曝光所用均匀平行光；工件台，与照明匀光系统相对设置，用于放置工件；掩模版，设置在照明匀光系统与工件台之间，设置有掩模图形；透光膜，针对均匀平行光具有高透光性，设置在工件与掩模版之间，用于隔离工件所涂覆光刻胶与掩模版。本发明通过在掩模版与工件上的光刻胶之间增加一张超薄的透光膜，将掩模版和光刻胶隔离开，然后再采用接触式或接近式曝光方式，解决了现有接近接触式曝光机防污染和曝光高分辨率无法兼得的问题。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 接近 接触 曝光 装置 | ||
【主权项】：
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