[发明专利]一种基于单片机的电阻测量及损伤成像装置及方法在审

专利信息
申请号: 202111231145.9 申请日: 2021-10-22
公开(公告)号: CN113848239A 公开(公告)日: 2021-12-28
发明(设计)人: 曾亮;蔡洋康;张楠 申请(专利权)人: 西安交通大学
主分类号: G01N27/20 分类号: G01N27/20
代理公司: 西安智大知识产权代理事务所 61215 代理人: 贺建斌
地址: 710049 陕*** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 一种基于单片机的电阻测量及损伤成像装置及方法,装置包括单片机,单片机与上位机连接,单片机通过隔离电路与待测结构输入连接,待测结构输出和节点电压检测电路输入连接,节点电压检测电路第一输出接地,节点电压检测电路第二输出和单片机的ADC转换接口连接;待测结构为碳纤维增强复合材料结构件;方法是通过单片机控制输出高电平信号,高电平信号经过隔离电路后输入到待测结构中;高电平信号通过损伤区域会反映损伤区域电阻的变化,由待测结构输出到节点电压检测电路,最后到单片机ADC转换接口,实现数据的储存和发送;单片机将接收到的电平信号发送到上位机,并通过数据处理实现损伤成像;本发明具有成本低、结构简单,检测效率高等优点。
搜索关键词: 一种 基于 单片机 电阻 测量 损伤 成像 装置 方法
【主权项】:
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