[发明专利]用于半导体电子束缺陷监测的图像处理方法、装置和系统在审

专利信息
申请号: 202111194437.X 申请日: 2021-10-13
公开(公告)号: CN114119469A 公开(公告)日: 2022-03-01
发明(设计)人: 陈晨 申请(专利权)人: 东方晶源微电子科技(北京)有限公司
主分类号: G06T7/00 分类号: G06T7/00;G06T5/50;G06T5/20;G06T3/00
代理公司: 北京市鼎立东审知识产权代理有限公司 11751 代理人: 朱慧娟;李芙蓉
地址: 101102 北京市大兴区北*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 本申请涉及一种用于半导体电子束缺陷监测的图像处理方法、装置和系统,通过获取原图,对所述原图进行滤波处理,获得滤波图像;获取所述滤波图像,采用对齐算法将所述滤波图像进行对齐处理,获得模板图像;将所述模板图像与预设参考图像进行图像减法运算,获得差值图像;计算所述差值图像的方差,并将所述方差与预设值进行对比判断,获取并输出比对判断结果。能够提高缺陷检测过程中图像对齐的成功率,由于滤波去掉图像对齐中不必要的细节,和利用差值图像对对齐结果的准确判断,进而可以交叉使用多种对齐算法,发挥各自优势,本发明的图像对齐算法成功率显著提升,从而大幅提升对齐算法的准确率。
搜索关键词: 用于 半导体 电子束 缺陷 监测 图像 处理 方法 装置 系统
【主权项】:
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