[发明专利]一种边缘等离子体分布调节装置有效
| 申请号: | 202111186541.4 | 申请日: | 2021-10-12 |
| 公开(公告)号: | CN113936988B | 公开(公告)日: | 2022-12-09 |
| 发明(设计)人: | 张权治;马方方;赵凯;孙景毓;刘永新;王友年 | 申请(专利权)人: | 大连理工大学 |
| 主分类号: | H01J37/32 | 分类号: | H01J37/32 |
| 代理公司: | 北京高沃律师事务所 11569 | 代理人: | 杨媛媛 |
| 地址: | 116024 辽*** | 国省代码: | 辽宁;21 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | 本发明涉及一种边缘等离子体分布调节装置,包括:射频源、卡盘、晶圆电极、接地电极、第三电极和调节电源;所述射频源加载在所述晶圆电极上;所述射频源用于在所述接地电极和所述晶圆电极之间产生射频交变电场以产生等离子体;所述接地电极接地;所述晶圆电极的边缘设置所述卡盘;所述第三电极设置在所述卡盘上;所述调节电源与所述第三电极连接;所述调节电源用于调制所述卡盘处的电位以改变所述晶圆电极边缘处的电势和电场分布。本发明通过调节等离子体的密度分布提高晶圆工艺的均匀性。 | ||
| 搜索关键词: | 一种 边缘 等离子体 分布 调节 装置 | ||
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于大连理工大学,未经大连理工大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202111186541.4/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种电子级玻璃纤维耐磨性测试装置及测试方法
- 下一篇:一种微孔清洁装置





