[发明专利]粉体包覆反应器、超声流化原子层沉积包覆装置及其应用有效
| 申请号: | 202111163408.7 | 申请日: | 2021-09-30 |
| 公开(公告)号: | CN114075659B | 公开(公告)日: | 2022-12-20 |
| 发明(设计)人: | 陈蓉;向俊任;单斌;刘潇;李嘉伟;邵华晨;弋戈 | 申请(专利权)人: | 华中科技大学 |
| 主分类号: | C23C16/442 | 分类号: | C23C16/442;C23C16/455;H01M4/36 |
| 代理公司: | 华进联合专利商标代理有限公司 44224 | 代理人: | 杜寒宇 |
| 地址: | 430070 湖北*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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| 摘要: | 本发明提供了一种粉体包覆反应器、超声流化原子层沉积包覆装置及其应用。该粉体包覆反应器包括反应筒和多个传振片;反应筒的两端具有开口,反应筒的侧壁上开设有多个第一通孔;多个传振片依次间隔设置于反应筒内,每个传振片的边缘密封连接于反应筒的内壁,多个传振片将反应筒的内腔分隔为沿一端开口至另一端开口方向上依次分布的多个子腔体,传振片上设置有用于供粉体在该传振片相邻的两个子腔体之间通过的第二通孔。上述粉体包覆反应器能够有效保持纳米颗粒的分散状态,实现大批量粉末的均匀包覆。 | ||
| 搜索关键词: | 粉体包覆 反应器 超声 流化 原子 沉积 装置 及其 应用 | ||
【主权项】:
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的





