[发明专利]一种提高低温高磁感取向硅钢附着性的方法有效

专利信息
申请号: 202111156354.1 申请日: 2021-09-30
公开(公告)号: CN114045385B 公开(公告)日: 2023-01-24
发明(设计)人: 肖光润;王雄奎;唐爽;刘宇;田文洲;孙山;蒋祝爽 申请(专利权)人: 武汉钢铁有限公司
主分类号: C21D9/00 分类号: C21D9/00;C21D1/68;C21D1/74;C21D3/04;C21D1/26;C23C8/26
代理公司: 湖北武汉永嘉专利代理有限公司 42102 代理人: 钟锋;闭钊
地址: 430083 湖*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发明涉及一种提高低温高磁感取向硅钢附着性的方法,该方法在现有低温高磁感取向硅钢连续式脱碳退火炉中,通过在脱碳退火前区通入氮气、氢气干式混合气,在脱碳退火后区通入氮气、氢气湿式混合气进行脱碳,在渗氮区通入氮气、氢气湿式混合气及氨气进行渗氮,解决了低温高磁感取向硅钢附着性不好的难题。本发明方法提高了钢中总氧量、增加了氧化层厚度、改善了氧化层结构,经高温退火后生成了致密的硅酸镁底层,附着性大幅提高,测试结果均在C级以上,大部分样品在B级以上。
搜索关键词: 一种 提高 低温 高磁感 取向 硅钢 附着 方法
【主权项】:
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