[发明专利]一种高透光率高偏振度的偏光片的制备方法在审

专利信息
申请号: 202111141960.6 申请日: 2021-09-28
公开(公告)号: CN113835149A 公开(公告)日: 2021-12-24
发明(设计)人: 吴福胜;唐成宏;吴云柱;向学毅;李世琴;刘密密 申请(专利权)人: 安徽皖维高新材料股份有限公司
主分类号: G02B5/30 分类号: G02B5/30;B29C55/06;B29C71/00;B29L11/00
代理公司: 安徽省合肥新安专利代理有限责任公司 34101 代理人: 卢敏
地址: 238002 安*** 国省代码: 安徽;34
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摘要: 发明公开了一种高透光率高偏振度的偏光片的制备方法,是将PVA光学薄膜水洗与膨润、染色、清洗、单轴延伸、清洗与补色后进行干燥形成偏光膜,偏光膜的两侧再各贴合保护层制得偏光片,在水洗与膨润过程中进行横向拉伸,将PVA膜出膨润槽的横向膨润度控制在120%‑160%。本发明的方法能够明显提升碘离子进入PVA膜中的速度,解决在提高透光率的情况下偏振度下降的问题,所获得的偏光片具有透光率高、偏振度高的优点,可以应用于OLED等显示领域。
搜索关键词: 一种 透光率 偏振 偏光 制备 方法
【主权项】:
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