[发明专利]一种高透光率高偏振度的偏光片的制备方法在审
| 申请号： | 202111141960.6 | 申请日： | 2021-09-28 |
| 公开（公告）号： | CN113835149A | 公开（公告）日： | 2021-12-24 |
| 发明（设计）人： | 吴福胜;唐成宏;吴云柱;向学毅;李世琴;刘密密 | 申请（专利权）人： | 安徽皖维高新材料股份有限公司 |
| 主分类号： | G02B5/30 | 分类号： | G02B5/30;B29C55/06;B29C71/00;B29L11/00 |
| 代理公司： | 安徽省合肥新安专利代理有限责任公司 34101 | 代理人： | 卢敏 |
| 地址： | 238002 安*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 透光率 偏振 偏光 制备 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种高透光率高偏振度的偏光片的制备方法，其特征在于：在偏光片生产过程中的PVA光学薄膜水洗与膨润环节进行适度的横向拉伸。
2.根据权利要求1所述的一种高透光率高偏振度的偏光片的制备方法，其特征在于：控制水洗与膨润后PVA光学薄膜的横向膨润度不低于120％。
3.根据权利要求2所述的一种高透光率高偏振度的偏光片的制备方法，其特征在于：控制水洗与膨润后PVA光学薄膜的横向膨润度在120％-160％。
4.根据权利要求1、2或3所述的一种高透光率高偏振度的偏光片的制备方法，其特征在于：所述横向拉伸的张力控制在10-80N，时间控制在10s-300s。
5.根据权利要求4所述的一种高透光率高偏振度的偏光片的制备方法，其特征在于：所述横向拉伸的张力控制在20-50N、时间控制在20s-120s，水洗与膨润后PVA光学薄膜的横向膨润度控制在130％-150％。
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