[发明专利]一种用于投影装置中的匀光器件在审

专利信息
申请号: 202111141309.9 申请日: 2021-09-28
公开(公告)号: CN113867089A 公开(公告)日: 2021-12-31
发明(设计)人: 周际新;董月红 申请(专利权)人: 扬州吉新光电有限公司
主分类号: G03B21/20 分类号: G03B21/20;G02B27/09
代理公司: 淮安市科翔专利商标事务所 32110 代理人: 韩晓斌
地址: 225200 江苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开一种用于投影装置中的匀光器件,其特征在于,包括:基板,所述基板包括第一表面以及与第一表面相对设置的第二表面;匀光结构,所述匀光结构设于所述基板第一表面,且所述匀光结构为凸起和/或凹陷结构;驱动部件,所述驱动部件与所述基板连接,使的所述基板反复运动的频率不低于10赫兹。本发明提供的匀光器件与驱动部件相连接,使的所述匀光器件反复运动的频率不低于10赫兹,且所述匀光器件表面设有微纳结构,这样匀光器件在激光光束照射在表面上时,经匀光器件表面的微结构,使光束分散能够达到消散光斑,同时因高速旋转,其照射位置有规律变化,使激光照射的集中点分散,从而提高激光耐受性,避免长期照射固定位置而烧蚀失效。
搜索关键词: 一种 用于 投影 装置 中的 器件
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