[发明专利]一种用于投影装置中的匀光器件在审

专利信息
申请号: 202111141309.9 申请日: 2021-09-28
公开(公告)号: CN113867089A 公开(公告)日: 2021-12-31
发明(设计)人: 周际新;董月红 申请(专利权)人: 扬州吉新光电有限公司
主分类号: G03B21/20 分类号: G03B21/20;G02B27/09
代理公司: 淮安市科翔专利商标事务所 32110 代理人: 韩晓斌
地址: 225200 江苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 用于 投影 装置 中的 器件
【权利要求书】:

1.一种用于投影装置中的匀光器件,其特征在于,包括:

基板,所述基板包括第一表面以及与第一表面相对设置的第二表面;

匀光结构,所述匀光结构设于所述基板第一表面,且所述匀光结构为凸起和/或凹陷结构;

驱动部件,所述驱动部件与所述基板连接,使的所述基板反复运动的频率不低于10赫兹。

2.根据权利要求1所述的一种用于投影装置中的匀光器件,其特征在于,所述基板第一表面设有光学间隔层,所述光学间隔层远离基板一侧设有匀光结构。

3.根据权利要求1所述的一种用于投影装置中的匀光器件,其特征在于,所述匀光结构随机或伪随机分布于所述基板第一表面。

4.根据权利要求1或2所述的一种用于投影装置中的匀光器件,其特征在于,当光线经过所述匀光结构时,形成的匀光角度为1°~20°。

5.根据权利要求1所述的一种用于投影装置中的匀光器件,其特征在于,所述匀光结构规则排布于所述基板第一表面,且所述匀光结构排列至少构成一个圆或一个环,所述圆或者环包括多个匀光结构;其中,所述匀光结构的顶角范围为95°~150°。

6.根据权利要求2所述的一种用于投影装置中的匀光器件,其特征在于,所述基板与所述光学间隔层之间还设有增透层,使的所述匀光器件的透过率不小于60%。

7.根据权利要求1~6所述的一种用于投影装置中的匀光器件,其特征在于,所述基板第二表面设有匀光结构;或者所述基板第二表面设有第二光学间隔层,所述第二光学间隔层远离所述基板一侧设有匀光结构。

8.根据权利要求5所述的一种用于投影装置中的匀光器件,其特征在于,至少存在一匀光结构是通过将相邻的匀光结构旋转而得到,且当光线经过所述匀光结构时,形成的匀光角度为1°~20°。

9.根据权利要求1所述的一种用于投影装置中的匀光器件,其特征在于,所述基板为金属材质;或者所述基板为金属材质,且所述匀光结构表面设有反射层,当光线经过所述匀光结构时,形成的匀光角度为15°~50°。

10.根据权利要求1所述的一种用于投影装置中的匀光器件,其特征在于,所述匀光结构还可以是匀光层,所述匀光层中设有匀光粒子。

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