[发明专利]用于双重成像工艺的套刻精度的检测结构及其检测方法有效

专利信息
申请号: 202111124092.0 申请日: 2021-09-24
公开(公告)号: CN113835309B 公开(公告)日: 2023-07-21
发明(设计)人: 宋海生 申请(专利权)人: 长江先进存储产业创新中心有限责任公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 代理人: 田婷
地址: 430014 湖北省武汉市东湖新技术开发区*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发明提供了一种用于双重成像工艺的套刻精度的检测结构及其检测方法。利用双重成像工艺形成的条形环状图案的长边和短边检测出第一方向和第二方向的套刻偏差,解决了例如现有的检测结构中所存在的不同方向的图形精度难以同时满足的问题,从而实现不同方向的套刻偏差可以在同一检测结构中获取。同时,本发明提供的检测结构中条形环状图案的尺寸和密度,可根据双重成像工艺在实际应用中所制备的尺寸和密度而对应设定,进而使得该检测结构可以更为真实准确的反映出双重成像工艺在实际应用中的工艺状况,实现对所制备出的器件结构的有效监控。
搜索关键词: 用于 双重 成像 工艺 精度 检测 结构 及其 方法
【主权项】:
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