[发明专利]一种铁原子掺杂诱导1T-MoS2在审

专利信息
申请号: 202111112864.9 申请日: 2021-09-23
公开(公告)号: CN113830833A 公开(公告)日: 2021-12-24
发明(设计)人: 高雪敏;李文江;付丽 申请(专利权)人: 天津理工大学
主分类号: C01G39/06 分类号: C01G39/06;C01B32/194;B82Y40/00;B82Y30/00;C25B1/04;C25B11/091
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 300384 天津市西青*** 国省代码: 天津;12
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摘要: 发明公开了一种铁原子掺杂诱导1T‑MoS2/石墨烯复合材料及其制备方法和应用。制备方法如下:将一定摩尔比例的钼源、硫源,分散溶解于一定体积的石墨烯分散液中。铁源溶液在磁力搅拌的作用下逐滴缓慢加入,在磁力搅拌和超声的作用下,形成均匀混合溶液。将混合溶液转移至聚四氟乙烯高压反应釜中,高温下一步水热反应得到铁原子掺杂诱导1T‑MoS2/石墨烯复合材料。本发明所制得铁原子掺杂诱导1T‑MoS2/石墨烯复合材料,结构为十到几十片1T‑MoS2纳米片堆积而成三维球状纳米花,均分分散在石墨烯基底上,复合材料孔隙丰富,表面积大,1T含量高,导电性好,结构稳定,具有优异的电解水析氢活性和良好的循环稳定性。
搜索关键词: 一种 原子 掺杂 诱导 mos base sub
【主权项】:
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