[发明专利]一种磁悬浮式光刻机掩模台有效
| 申请号： | 202111110519.1 | 申请日： | 2021-09-22 |
| 公开（公告）号： | CN113885298B | 公开（公告）日： | 2022-06-17 |
| 发明（设计）人： | 吴剑威;李昌其;赵鹏越;郑健;王继尧;韦威威;谭久彬 | 申请（专利权）人： | 哈尔滨工业大学 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 广州三环专利商标代理有限公司 44202 | 代理人： | 颜希文;宋亚楠 |
| 地址： | 150001 黑龙*** | 国省代码： | 黑龙江;23 |
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| 摘要： | 本发明涉及光刻机设备技术领域，公开了一种磁悬浮式光刻机掩模台，其包括基座、微动台、掩模版，基座上表面设有驱动机构和磁悬浮导轨，磁悬浮导轨为长条状，两条磁悬浮导轨互相平行，每条磁悬浮导轨朝向另一磁悬浮导轨一侧设有导轨凹槽；微动台设有安装位，微动台上表面设有四个上电磁铁，上电磁铁以矩形分布，四个上电磁铁位于矩形四个边角位置，微动台下表面设有四个下电磁铁，下电磁铁与上电磁铁的位置一一对应，微动台悬浮于两条磁悬浮导轨之间，上电磁铁和下电磁铁位于导轨凹槽内，驱动机构驱动微动台做多自由度精密运动；掩模版安装于安装位；控制电路，其用于控制每个上电磁铁和每个下电磁铁的磁力大小，实现了微动台多自由度位姿调整。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 磁悬浮 光刻 机掩模台 | ||
【主权项】：
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