[发明专利]一种兼容磁性靶材和非磁性靶材的磁控溅射阴极在审
| 申请号： | 202111108818.1 | 申请日： | 2021-09-22 |
| 公开（公告）号： | CN113897583A | 公开（公告）日： | 2022-01-07 |
| 发明（设计）人： | 汪建;杜寅昌;李成;刘风光;吴鹏;赵巍胜 | 申请（专利权）人： | 北京航空航天大学合肥创新研究院（北京航空航天大学合肥研究生院） |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/34 |
| 代理公司： | 合肥天明专利事务所(普通合伙) 34115 | 代理人： | 苗娟 |
| 地址： | 230013 安徽*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本发明的一种兼容磁性靶材和非磁性靶材的磁控溅射阴极，包括靶材、磁体、磁轭及靶座，还包括运动机构；靶材安装在靶座上方，磁体安装在磁轭上，位于靶座下方；磁轭和靶座连接到运动机构上，运动机构可以牵引靶座及上方的靶材上下移动，从而改变靶材与磁体的间距。当靶材为磁性材料时，通过运动机构调节靶材和磁体间距变小；当靶材换成非磁性材料时，通过运动机构，靶材与磁体间距变大。本发明可以根据靶材的性质，合理调整靶材与磁体的间距，使得靶材表面磁场的平行分量分别适用于磁性靶材和非磁性靶材，磁性靶材和非磁性靶材兼容在同一个磁控溅射阴极上使用。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 兼容 磁性 磁控溅射 阴极 | ||
【主权项】：
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