[发明专利]一种兼容磁性靶材和非磁性靶材的磁控溅射阴极在审

专利信息
申请号: 202111108818.1 申请日: 2021-09-22
公开(公告)号: CN113897583A 公开(公告)日: 2022-01-07
发明(设计)人: 汪建;杜寅昌;李成;刘风光;吴鹏;赵巍胜 申请(专利权)人: 北京航空航天大学合肥创新研究院(北京航空航天大学合肥研究生院)
主分类号: C23C14/35 分类号: C23C14/35;C23C14/34
代理公司: 合肥天明专利事务所(普通合伙) 34115 代理人: 苗娟
地址: 230013 安徽*** 国省代码: 安徽;34
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摘要:
搜索关键词: 一种 兼容 磁性 磁控溅射 阴极
【权利要求书】:

1.一种兼容磁性靶材和非磁性靶材的磁控溅射阴极,包括靶材(1)、磁体(2)、磁轭(3)及靶座(4),其特征在于:还包括运动机构(5);

磁体(2)选用强磁场磁体以适应磁性靶材,磁体(2)安装在磁轭(3)上,位于靶座(4)下方;靶材(1)安装在靶座(5)上方;

当靶材(1)为磁性靶材时,通过运动机构(5)调整靶材和磁体(2)的间距,使之靠近;

当靶材(2)为非磁性靶材时,通过运动机构(5)调整靶材和磁体(2)的间距,使之远离。

2.根据权利要求1所述的兼容磁性靶材和非磁性靶材的磁控溅射阴极,其特征在于:所述磁体为圆柱状、条形、正方形或者不规则形状。

3.根据权利要求2所述的兼容磁性靶材和非磁性靶材的磁控溅射阴极,其特征在于:所述磁体为永磁体或者电磁体。

4.根据权利要求1所述的兼容磁性靶材和非磁性靶材的磁控溅射阴极,其特征在于:

所述运动机构包括内旋转驱动轴(A)、阴极支撑外筒(B)、转接法兰(C),上波纹管(D)、直线驱动机构(E)、下波纹管(F)、接口安装法兰(G);

磁轭(3)安装在内旋转驱动轴(A)上,靶座(4)通过螺栓固定在阴极支撑外筒(B)上,阴极支撑外筒(B)与转接法兰(C)焊接固定,同时转接法兰(C)连接上波纹管(D)、下波纹管(F)及直线驱动机构(E),下波纹管(F)另一端与接口安装法兰(G)连接。

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