[发明专利]一种高折射率微晶修饰的荧光体化合物及其制备方法和组合物有效
| 申请号： | 202111105234.9 | 申请日： | 2021-09-22 |
| 公开（公告）号： | CN113652232B | 公开（公告）日： | 2023-01-31 |
| 发明（设计）人： | 邓华;朱洪维;宫兆强;高忠清;赵忠义;姚述利;颜俊雄;豆帆;刘海燕 | 申请（专利权）人： | 烟台希尔德材料科技有限公司 |
| 主分类号： | C09K11/86 | 分类号： | C09K11/86;C09K11/78 |
| 代理公司： | 烟台上禾知识产权代理事务所(普通合伙) 37234 | 代理人： | 齐素立 |
| 地址： | 264000 山*** | 国省代码： | 山东;37 |
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| 摘要： |
本发明提供了一种高折射率微晶修饰的荧光体化合物及其制备方法和组合物。本发明荧光体化合物通式为k1(M1 |
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| 搜索关键词： | 一种 折射率 修饰 荧光 化合物 及其 制备 方法 组合 | ||
【主权项】：
暂无信息
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