[发明专利]具有光催化效应纳米碳化硼/聚偏氟乙烯膜及其制备方法有效
| 申请号： | 202111096371.0 | 申请日： | 2021-09-18 |
| 公开（公告）号： | CN113680220B | 公开（公告）日： | 2023-07-21 |
| 发明（设计）人： | 李三喜;欧阳园园;蒋大富 | 申请（专利权）人： | 沈阳工业大学 |
| 主分类号： | B01D67/00 | 分类号： | B01D67/00;B01D71/34;B01D69/02;B01D69/12;C02F1/72;C02F1/30;B01J21/18;B01J35/00;C02F101/30 |
| 代理公司： | 沈阳圣群专利事务所(普通合伙) 21221 | 代理人： | 王钢 |
| 地址： | 110870 辽宁省沈阳*** | 国省代码： | 辽宁;21 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种聚偏氟乙烯膜及其制备方法，尤其涉及一种具有光催化效应纳米碳化硼/聚偏氟乙烯膜及其制备方法，属于无机纳光催化材料领域。具有光催化效应纳米碳化硼/聚偏氟乙烯膜，由下述组分构成：15‑18wt%聚偏氟乙烯、1‑4wt%的纳米碳化硼和78‑84wt%的有机溶剂；包括下述步骤：1）材料预处理；2）铸膜液的制备；3）纳米碳化硼/聚偏氟乙烯膜的制备。本发明的优点效果：本发明采用将纳米碳化硼粉末掺入聚合物膜基质中，通过浸没沉淀相转化法制备出具有光催化效应的复合膜材料。具有制备工艺简单，能大规模生产。制备出的纳米碳化硼/聚偏氟乙烯光催化膜对浓度为50mg/L的罗丹明溶液具有良好的降解效果。本发明通过高级氧化过程起到自清洁作用，可重复使用；优异的物理性能增加了膜的使用寿命。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 光催化 效应 纳米 碳化 聚偏氟 乙烯 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
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