[发明专利]具有光催化效应纳米碳化硼/聚偏氟乙烯膜及其制备方法

权利要求书

1.具有光催化效应纳米碳化硼/聚偏氟乙烯膜，其特征在于由下述组分构成：15-18wt%聚偏氟乙烯、1-4wt%的纳米碳化硼和78-84wt%的有机溶剂；

包括下述步骤：

1）材料预处理:称取15-18wt%聚偏氟乙烯和1-4wt%的纳米碳化硼粉末，放入鼓风干燥箱中干燥；

2）铸膜液的制备：将干燥后的纳米碳化硼粉末研磨使颗粒均匀细化，然后加入到一半的有机溶剂中，利用探头超声分散器进行超声分散得到分散液，向分散液中加入干燥后的聚偏氟乙烯和剩余的有机溶剂得混合液；将配置好的混合液进行搅拌，使聚偏氟乙烯完全溶解于有机溶剂中；搅拌后的聚合物溶液进行超声脱气处理使气泡完全脱除得到涂料溶液；

3）纳米碳化硼/聚偏氟乙烯膜的制备：将涂料溶液浇铸在一块干净的玻璃板上，利用铸膜器铸膜，将碳化硼/聚偏氟乙烯膜立即浸入凝固浴中，在室温下充分浸泡以避免溶剂残留。

2.根据权利要求1所述的具有光催化效应纳米碳化硼/聚偏氟乙烯膜，其特征在于所述的有机溶剂为N,N-二甲基乙酰胺或N,N-二甲基甲酰胺。

3.根据权利要求1所述的具有光催化效应纳米碳化硼/聚偏氟乙烯膜，其特征在于所述的纳米碳化硼粒径为30-50nm。

4.根据权利要求1所述的具有光催化效应纳米碳化硼/聚偏氟乙烯膜，其特征在于所述的聚偏氟乙烯型号为PVDF（6010）或PVDF（kf850）。

5.根据权利要求1所述的具有光催化效应纳米碳化硼/聚偏氟乙烯膜，其特征在于所述的步骤1）中的干燥条件为60-80℃干燥2-4h。

6.根据权利要求1所述的具有光催化效应纳米碳化硼/聚偏氟乙烯膜，其特征在于所述的步骤2）中超声分散时间为15-30min。

7.根据权利要求1所述的具有光催化效应纳米碳化硼/聚偏氟乙烯膜，其特征在于所述的有机溶剂为N,N-二甲基乙酰胺或N,N-二甲基甲酰胺。

8.根据权利要求1所述的具有光催化效应纳米碳化硼/聚偏氟乙烯膜的制备方法，其特征在于所述的铸膜液搅拌条件为40-60℃下搅拌12-15h，超声脱气之间为2-4h。

9.根据权利要求1所述的具有光催化效应纳米碳化硼/聚偏氟乙烯膜，其特征在于所述的凝固浴为水或者的水与乙醇混合液。