[发明专利]一种研磨介质及其制备方法在审
| 申请号： | 202111076231.7 | 申请日： | 2021-09-14 |
| 公开（公告）号： | CN113735571A | 公开（公告）日： | 2021-12-03 |
| 发明（设计）人： | 丁慎亮;王慧;李通;王辉;董伟强;张刚;宋新月;于宏林 | 申请（专利权）人： | 中材高新材料股份有限公司 |
| 主分类号： | C04B35/10 | 分类号： | C04B35/10;C09K3/14 |
| 代理公司： | 北京志霖恒远知识产权代理事务所(普通合伙) 11435 | 代理人： | 赵奕 |
| 地址： | 255000 山东省*** | 国省代码： | 山东;37 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种研磨介质，按重量百分比包括如下原料：第一原料组：90～95％的氧化铝粉、0.5～2.0％的烧滑石、1.0～3.0％的白云石、3.0～5.5％的苏州土和0.3～0.8％的氧化钇；第二原料组：0.2～1.0％的增塑剂和0.2～1.0％的分散剂，同时，本发明还公开了一种研磨介质的制备方法。本发明通过增加研磨介质中的氧化铝含量，降低了烧结过程中的液相量，最终制备的研磨介质瓷化程度低，晶界能较大，在冲击过程中很难产生大裂纹，大大增加了研磨介质的抗冲击性，使其适用于较恶劣的干磨环境中。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 研磨 介质 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
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