[发明专利]掩模版制造装置

摘要

本发明属于掩模版制造领域，尤其涉及一种掩模版制造装置，包括：承托结构；第一液体雾化组件，包括第一微粒均布板以及第一液体高频超声雾化器，第二液体雾化组件，包括第二微粒均布板以及第二液体高频超声雾化器，气流引流扩散组件，设有两个，并分别左右设置，气流引流扩散组件包括均流结构以及气流发生装置，均流结构包括上下设置的上均流板和下均流板。本发明能够使得掩模版上下表面同时获得的光学结构层的厚度均匀、密度一致。