[发明专利]具有氮化铝膜层的基材的加工方法及滤波器的制备方法在审
| 申请号： | 202111045918.4 | 申请日： | 2021-09-07 |
| 公开（公告）号： | CN113764571A | 公开（公告）日： | 2021-12-07 |
| 发明（设计）人： | 邹斌;蔡丹华;史爽 | 申请（专利权）人： | 绍兴中芯集成电路制造股份有限公司 |
| 主分类号： | H01L41/22 | 分类号： | H01L41/22;B08B3/08;H03H3/02 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 周耀君 |
| 地址： | 312000 浙*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种具有氮化铝膜层的基材的加工方法及滤波器的制备方法。在执行湿法制程之后进行酸洗，并在酸洗后利用亲水性有机溶剂执行脱水处理，以去除氮化铝膜层上的水分，避免氮化铝和水发生化学反应而产生固体杂质，提高了氮化铝膜层的表面清洁度和平坦度，改善后续形成在氮化铝膜层上的薄膜品质。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 氮化 铝膜层 基材 加工 方法 滤波器 制备 | ||
【主权项】：
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