[发明专利]磁光薄膜、光隔离器以及制造磁光薄膜的方法在审
| 申请号： | 202111040113.0 | 申请日： | 2021-09-06 |
| 公开（公告）号： | CN113741068A | 公开（公告）日： | 2021-12-03 |
| 发明（设计）人： | 陈蓉;曹坤;熊英飞;金泽睿;周华俊;李浩华;张斌 | 申请（专利权）人： | 华为技术有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/09 | 分类号： | G02F1/09;C30B29/28;C30B29/16;C30B28/12 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 罗利娜 |
| 地址： | 518129 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本申请的实施例提供了一种磁光薄膜、光隔离器以及制造磁光薄膜的方法。该磁光薄膜包括：基底；设置在所述基底之上的扩散阻挡层，所述扩散阻挡层包含金属氧化物；设置在所述扩散阻挡层之上的缓冲层；以及设置在所述缓冲层之上的光隔离层。在这样的实施例中，由于在基底上生长的扩散阻挡层中的金属氧化物是多晶的，更有利于缓冲层在扩散阻挡层上形核，结晶性好。此外，由于金属氧化物具有较高的致密度和热稳定性，因而能够提供稳定可靠的扩散阻挡效果，进一步降低了磁光薄膜的光学损耗。 | ||
| 搜索关键词： | 薄膜 隔离器 以及 制造 方法 | ||
【主权项】：
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