[发明专利]对象跟踪方法、装置、后端及介质在审

专利信息
申请号: 202111032010.X 申请日: 2021-09-03
公开(公告)号: CN115729345A 公开(公告)日: 2023-03-03
发明(设计)人: 陈东尧;王铭珂;何晨曦;罗庆;王新兵 申请(专利权)人: 上海交通大学
主分类号: G06F3/01 分类号: G06F3/01;G06F18/2411;G06F18/2413;G06F30/27;G06N3/006
代理公司: 上海光华专利事务所(普通合伙) 31219 代理人: 王国祥
地址: 200240 *** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明提供一种对象跟踪方法、装置、后端及介质。所述方法包括:获取传感器阵列发送的原始传感器数据,所述传感器阵列包括多个磁场传感器,所述原始传感器数据包括所述传感器阵列所在位置的磁场强度;根据所述原始传感器数据判断目标磁铁是否存在,其中,所述目标磁铁为设置于目标对象的永磁铁;当所述目标磁铁存在时,根据所述原始传感器数据对所述目标磁铁进行跟踪。所述方法能够实现基于永磁铁的对象跟踪。
搜索关键词: 对象 跟踪 方法 装置 后端 介质
【主权项】:
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