[发明专利]一种低出气率抗静电光学吸收涂层及其制备方法有效
| 申请号： | 202110997957.8 | 申请日： | 2021-08-27 |
| 公开（公告）号： | CN113583495B | 公开（公告）日： | 2022-08-09 |
| 发明（设计）人： | 俞兵;王啸;袁林光;李朝龙;范纪红;史浩飞;李燕;朴明星;秦艳 | 申请（专利权）人： | 西安应用光学研究所 |
| 主分类号： | C09D5/24 | 分类号： | C09D5/24;C09D183/08;C09D183/06 |
| 代理公司： | 中国兵器工业集团公司专利中心 11011 | 代理人： | 刘二格 |
| 地址： | 710065 陕西*** | 国省代码： | 陕西;61 |
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| 摘要： | 本发明属于光学吸收涂层技术领域，公开了一种低出气率抗静电光学吸收涂层的制备方法，过程依次为：制备底涂分散液、制备底涂、制备面涂悬浮液、制备面涂、涂层热处理。本发明采用以碳材料为主的非聚合物反应体系，具有无分解物、无游离小分子产生等特点，消除来自涂层材料组分的出气污染；采用高疏水性的硅氧烷封闭碳材料中亲水性官能团，大幅减少涂层对水气等环境气体的吸附量；同时，该涂层具有较好的抗静电性能，能满足特定空间环境的应用需求。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 出气 抗静电 光学 吸收 涂层 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
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